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      光學鍍膜腔體加工類型

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      光學鍍膜腔體加工類型

      發布日期:2020-09-03 作者: 點擊:

      光學鍍膜腔體加工類型


      真空腔體廠家的光學鍍膜腔體由薄膜層組合而成,通過產生干擾效應進而提高光學系統內的反射性能或者透射率.光學鍍膜的性能取決于不同的層接口,層數和個別層的厚度折射率.精密光學的比較常見鍍膜類型有:過濾光片膜、分光鏡膜、高反射膜和增透膜(AR).


      光學鍍膜腔體由薄膜層組合而成,通過產生干擾效應進而提高光學系統內的反射性能或者透射率.

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      增透膜是在高折射率的光學中用于較大化光通量和降低鬼影.高反射膜的設計可在范圍較大的整個波長或者單個波長中以較大程度反射.分光鏡膜將入射光分為已知的透射光和反射光輸出.濾光片應用于大量的工業應用中,并以特定波長用于透射、反射、吸收或衰減光.


      陽極層離子源是在一條環形窄縫中施加磁場,在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件.陽極層離子源可以做得很大很長,特別適合鍍大工件,如建筑玻璃.陽極層離子源離子電流也較大.但其離子流較發散,且能級分布太寬.一般用于大型工件,玻璃,裝飾工件.應用于光學鍍膜不是很多. 


      離子源可以增強基體和膜的結合強度,膜本身的耐磨耐蝕特性與硬度也會改善.離子源的類型雖然多,但是目的無非是在線清洗,調制增加反應氣體能量和改善被鍍表面能量分布.如果鍍工具耐磨層,厚度較大對膜厚均勻性要求不高的情況下,可采用離子電流較大能級也較高的離子源,如霍爾離子源或陽極層離子源.


      霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協作下將工藝氣體等離子化.這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束.由于軸向磁場的作用太強,霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流.


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