鄭州科之特真空設備有限公司
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在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。真空鍍膜中的濺射利用了輝光放電原理，因為有電場的存在，驅動空氣中的電子和正離子運動，離子與電子在運動過程中動能量不斷增加，與空氣分子碰撞就會不斷地產生更多的離子與電子，就造成了輝光的持續放電。
但是輝光放電是有限制的，非真空狀態或者真空度過低，就是空氣中的分子過多，電子與離子頻繁與分子碰撞而積聚不起能量而無法電離分子，所以濺射要求在一定的真空壓力下才能實現，必須要采用真空腔體。
